好像很多人都在说今年国产EUV就能出来？反正我是不太信。 ASML用了30多年，积累了快两代人的人才梯队，汇聚了全世界最优秀的供应商和技术，才将将把EUV从原理做到了量产。 中国人就算再聪明再能干再加班再吃苦也不太可能在这么几年的时间里就把量产级EUV搞定。 要说实验性质的，倒是存在一定的可能性。 顺带一提，DUV和EUV是两个完全不同的产品。虽然都叫光刻机，但EUV和DUV之间的差距比人和狗之间的差距还大。 所以EUV不是DUV的…

以前，我以为，7nm以下只能euv，因为tsmc就是这么搞的。duv的多次曝光是权宜之计。 最近，和朋友聊了聊，才发现不是的，人被逼到那个份上，思路被打开了。euv在2nm之前不是必须的。多次曝光比想象中的牛逼多了。gaa都不是问题。 我第一反应是不是良率不行，成本飙升？答案是不一定，euv良率也有限，duv多次曝光是多了很多工序，但起码现在，没有成本上的显著差距。未来可能潜力不行，被甩开，但起码现在，可以狠狠得往前迈一步。…

目前没有商用的国产光刻机。差距太大，上头几乎已经放弃研制光刻机了，也不算保密，只是没公布罢了。 目前国产最新的水平是07年研制出16年才形成制造能力的90nm，上头觉得能够保证战略要求就足够了，所以这个90nm的也没有商业化量产过，只有几台预研机。 下一步其实应该是65nm光刻机，这也是国内唯一真正立项的光刻机项目。 而国外65nm正是07年开始量产的，中国整整憋了17年，还是没有造出来。 光刻机平均三年一代，01年第七代13…