中国的光刻机技术到底已经到达什么程度了？

目前没有商用的国产光刻机。差距太大，上头几乎已经放弃研制光刻机了，也不算保密，只是没公布罢了。

目前国产最新的水平是07年研制出16年才形成制造能力的90nm，上头觉得能够保证战略要求就足够了，所以这个90nm的也没有商业化量产过，只有几台预研机。

下一步其实应该是65nm光刻机，这也是国内唯一真正立项的光刻机项目。

而国外65nm正是07年开始量产的，中国整整憋了17年，还是没有造出来。

光刻机平均三年一代，01年第七代130nm，05年第八代90nm，07年第九代65nm，10年第十代45nm，13年第11代32nm，16年第12代22nm，18年第13代7nm，20年第14代5nm，今年最新的第15代能产2nm的已经出来了。

即使按照和国外一样的发展速度，中国2016年从90nm出发，三年一代，中国应该能造出第12代22nm光刻机，但实际是中国第9代65nm还一直未攻克。

不但比国外发展得晚，而且还发展得更慢。这就是国产光刻机的现状。

原因之一就是没有市场，光刻机研发是一个技术密集型的产业，成本巨大，纯靠补贴是不可能发展出来的。

有人说为什么不强制让国内的芯片厂买国产的光刻机，支持国产发展？如果这么做了，除了拉这些国产芯片厂一起死，没有任何效果。小批量的国产光刻机不但比国外同等产品更贵，而且性能得不到保证，光刻机的能效和良率对芯片厂非常重要，特别是成熟制程，国产的仿制品还上不了竞争台。

但是不商用，就没办法改进自己，无法改进自己，就更无法商用，这就成了一个死循环。

后面的duv和euv就更别想了。euv要是真那么好造，光刻机第二的日本早造了，还等你来？

euv零件中80%是asml自己定制的，中国没有样机百分百无法仿制，自己按原理造，一定会碰到美国专利，在没有开战的情况下，美国不点头，肯定没法用。

无论市场还是技术，美国德国为原理基石，荷兰和日本高低搭配制造的格局已经固化，光刻机的大门已经彻底关上了。

至于网络上铺天盖地的上海微电子光刻机，只能说是无良自媒体为了流量掀起的一场骗局。上微那个虽然也叫光刻机，但不是我们通常认为的造芯片的光刻机。上微的叫后道光刻机，是用来封装的，造芯片的叫前道光刻机，二者关系就好比自行车和火车的关系，都可以叫车，但作用和技术含量一个天一个地，完全两样东西。

当然，一些euv中的关键技术国内还是在研究的，比如euv中的光源部分，但光源的应用范围很多，研发光源并不单是为光刻机。

现在上面的策略很简单，保证能小批量制造最简单的，可以满足军事需要的光刻机即可。

至于高端光刻机，没有就没有呗，以前也没有，不也一样过来了吗？

现在国家宁愿拿着三千亿，组个大基金，到资本市场上去厮杀，去炒一些蜉蝣般生生死死，今日不知明日的芯片公司，也不会拿去研究光刻机。

因为在资本市场上还能割一些韭菜，去投光刻机，再多的钱，再怎么动用举国之力，最后肯定都是血本无归的。

一步慢，步步慢，有些末班车会赶上，有些就真的只能错过了。

但是错过了又能怎样？世界上大部分国家都没有光刻机，其实真没必要有什么执念。